Realizzazione giunzioni p-n •diffusione •impiantazione •deposizione epitassiale Il profilo dipende dalla tecnica usata Dispositivi a semiconduttore 1 Giunzione p-n polarizzata Dispositivi a semiconduttore 2 Il potenziale di contatto : o Vbi ( built-in) p-side n-side EC Ei EV EC Ei p Ei EF kT ln ni q Vbi = (Ei EF)p-side + (EF Ei)n-side n EF Ei kT ln ni EV Dispositivi a semiconduttore 3 Dalla figura risulta: Vbi = (1/e) {(Ei EF)p-side + (EF Ei)n-side } kT p kT n ln ( ) ln ( ) e ni e ni pp nn kT ln ( 2 ) e ni dove pp hole concentration p side e nn electron concentration on n side Da osservare: e Vbi nn exp Dispositivi a semiconduttore pn np kT pp 4 Concentrazione maggioritari/minoritari p-side NA ND pp n-side nn p+n pn np dp dn Dispositivi a semiconduttore x 5 Vbi in funzione NB NB Dispositivi a semiconduttore 6 Giunzione p-n polarizzata Dispositivi a semiconduttore 7 Dispositivi a semiconduttore 8 Dispositivi a semiconduttore 9 Legge di Shockley eV J J S exp 1 KT ni2 De ni2 Dh J S e N A Le N D Lh IS V=0.6 V( Si) 0.2 V (Ge) Dispositivi a semiconduttore 10 Valori numerici ni 1010 cm 3 1016 m 3 Dh 25 10 4 m 2 / s Dh 50ms 1 Lh ni2 De ni2 Dh J S e N A Le N D Lh N D 1015 cm 3 10 21 m 3 N A 1017 cm 3 Lh 5 10 5 m Dh Lh 5 10 5 m Lh 10 6 s ni2 Dh 1.6 1019 1011 50 Amp m 2 8 108 Amp m 2 J S e N D Lh Dispositivi a semiconduttore 11 Si-n doped Dispositivi a semiconduttore 12 Distribuzione portatori Dispositivi a semiconduttore 13 Distribuzione correnti Dispositivi a semiconduttore 14 Dispositivi a semiconduttore 15 Il quasi-livello di Fermi varia linearmente a partire dalla Regione di giunzione Dispositivi a semiconduttore 16 Modello semplificato Dispositivi a semiconduttore 17 Legge di Shockley Fattore di idealità h qV J J S exp hk T B 1 Dispositivi a semiconduttore 18 Legge di Shockley IS Dispositivi a semiconduttore 19 Breakdown Tunneling Avalanche Giunzioni sottili Dispositivi a semiconduttore 20 Breakdown Dispositivi a semiconduttore 21 Dispositivi a semiconduttore 22