Realizzazione giunzioni p-n
•diffusione
•impiantazione
•deposizione epitassiale
Il profilo dipende dalla
tecnica usata
Dispositivi a semiconduttore
1
Giunzione p-n polarizzata
Dispositivi a semiconduttore
2
Il potenziale di contatto : o Vbi ( built-in)
p-side
n-side
EC
Ei
EV
EC
Ei
p
Ei EF kT ln
ni
q Vbi = (Ei EF)p-side + (EF Ei)n-side
n
EF Ei kT ln
ni
EV
Dispositivi a semiconduttore
3
Dalla figura risulta:
Vbi = (1/e) {(Ei EF)p-side + (EF Ei)n-side }
kT
p
kT
n
ln ( )
ln ( )
e
ni
e
ni
pp nn
kT
ln ( 2 )
e
ni
dove
pp hole concentration p side
e nn electron concentration on n side
Da osservare:
e Vbi
nn
exp
Dispositivi a semiconduttore
pn
np
kT
pp
4
Concentrazione maggioritari/minoritari
p-side
NA
ND
pp
n-side
nn
p+n
pn
np
dp dn
Dispositivi a semiconduttore
x
5
Vbi in funzione NB
NB
Dispositivi a semiconduttore
6
Giunzione p-n polarizzata
Dispositivi a semiconduttore
7
Dispositivi a semiconduttore
8
Dispositivi a semiconduttore
9
Legge di Shockley
eV
J J S exp
1
KT
ni2 De ni2 Dh
J S e
N A Le N D Lh
IS
V=0.6 V( Si)
0.2 V (Ge)
Dispositivi a semiconduttore
10
Valori numerici
ni 1010 cm 3 1016 m 3
Dh 25 10 4 m 2 / s
Dh
50ms 1
Lh
ni2 De ni2 Dh
J S e
N A Le N D Lh
N D 1015 cm 3 10 21 m 3
N A 1017 cm 3
Lh 5 10 5 m
Dh Lh 5 10 5 m
Lh
10 6 s
ni2 Dh
1.6 1019 1011 50 Amp m 2 8 108 Amp m 2
J S e
N D Lh
Dispositivi a semiconduttore
11
Si-n doped
Dispositivi a semiconduttore
12
Distribuzione portatori
Dispositivi a semiconduttore
13
Distribuzione correnti
Dispositivi a semiconduttore
14
Dispositivi a semiconduttore
15
Il quasi-livello di Fermi varia linearmente a partire dalla
Regione di giunzione
Dispositivi a semiconduttore
16
Modello semplificato
Dispositivi a semiconduttore
17
Legge di Shockley
Fattore di idealità h
qV
J J S exp
hk T
B
1
Dispositivi a semiconduttore
18
Legge di Shockley
IS
Dispositivi a semiconduttore
19
Breakdown
Tunneling
Avalanche
Giunzioni sottili
Dispositivi a semiconduttore
20
Breakdown
Dispositivi a semiconduttore
21
Dispositivi a semiconduttore
22