Curriculum di Fortunato Neri
Professore straordinario nel settore scientifico-disciplinare FIS/01 “Fisica Sperimentale” presso la
Facoltà di Scienze M.F.N. dell'Università di Messina.
Attività scientifica recente
- Dal 1/7/2006 promotore e responsabile scientifico dello “Spin-off” accademico “Advanced and
Nano Materials Research s.r.l.” dell’Università di Messina.
- Dal 1/7/2006 al 30/6/2007 responsabile del progetto scientifico annuale, finanziato da
STMicroelectronics, “Analisi chimico-fisica tramite spettroscopia XPS dell’interfaccia Si/SiOxN realizzata tramite
processi in N2O ad alta temperatura ed integrata in tecnologie POWERMOSFET ad alta affidabilità ”
- Dal 2006 responsabile scientifico del Progetto triennale di ricerca industriale del MIUR (D.Lgs n°
297 del 27/7/1999) “Strati sottili di carbonio e relativi processi di crescita per rivestimenti anti-erosione” (G.U.R.I.,
serie Generale n° 3 del 4.1.2006).
- Dal 2006 responsabile della linea di ricerca “Materiali dielettrici a film sottile” (ME-3.3) nell’ambito
dell’Area Tematica 3 dell’unità CNISM di Messina.
La sua attività di ricerca, a carattere sperimentale, è svolta presso il Dipartimento di Fisica della Materia e
Tecnologie Fisiche Avanzate dell'Università di Messina e presso l’Istituto per i Processi Chimico-Fisici del
C.N.R. – sezione di Messina ed ha riguardato, nel corso degli anni, le seguenti tematiche di Fisica della
Materia:
a) Film sottili di silicio amorfo idrogenato
b) Proprietà elettroniche di semiconduttori a struttura lamellare
c) Influenza degli errori nell’analisi dei dati sperimentali
d) Spettroscopia elettronica di fotoemissione e di energy loss
e) Studio della diffusione di luce laser per il dimensionamento di particelle submicrometriche
f) Deposizione di film sottili per ablazione laser e studio delle loro proprietà strutturali ed elettroniche.
g) Diagnostica dell’emissione ottica da plasma di ablazione
h) Studio delle caratteristiche chimico-fisiche dell’interfaccia SiO2/SiOxNy/Si in dispositivi Power
MOSFET.
L’attività di ricerca, scaturita essenzialmente da studi condotti sulla base delle metodologie e tecniche
sperimentali messe a punto, è documentata da numerose pubblicazioni su riviste internazionali e da
comunicazioni a congressi nazionali ed internazionali.
Nel corso degli anni si è dedicato allo sviluppo ed alla messa a punto di diverse tecniche ed apparati
sperimentali. In particolare ha realizzato e cura, attualmente, il funzionamento dei seguenti laboratori:
Laboratorio di Spettroscopia Elettronica dotato delle tecniche di X-ray Photoelectron Spectroscopy, Auger
Spectroscopy e Reflection Energy Loss Spectroscopy;
Laboratorio di Tecniche Spettroscopiche che dispone di un sistema per Raman Microscopy oltre ai
tradizionali sistemi di spettroscopia ottica di assorbimento ed emissione;
Laboratorio di Nanotecnologie dotato di un sistema di ablazione da fasci laser impulsati in liquidi
LAL (Laser Ablation in Liquids) per la produzione di nanoaggregati metallici e dielettrici.
Laboratorio per la Preparazione di Film Sottili, realizzato presso l’Istituto per i Processi ChimicoFisici del C.N.R. ed in collaborazione con ricercatori dell’Istituto stesso, fondamentalmente basato
sulla tecnica della ablazione con fasci laser impulsati di potenza e dotato anche di un sistema per la
diagnostica spazio-temporale delle emissioni fluorescenti del plasma di ablazione.
Elenco delle pubblicazioni (censite ISI) dal 1998
F. Barreca, F. Neri, S. Trusso, C. Vasi
"Micro-Raman study of reactive pulsed laser ablation deposited silicon carbon alloy films"
Journal of Vacuum Science and Technology A 16, 3020 (1998)
2) G.M. Currò, V. Grasso, F. Neri, L. Silipigni
"An X-ray photoemission spectroscopy study of the Sn2P2S6 monoclinic II phase"
Nuovo Cimento D 20, 1163 (1998)
3) F. Neri, S. Trusso, C. Vasi, F. Barreca, P. Valisa
“Raman microscopy study of pulsed laser ablation deposited silicon carbide films”
Thin Solid Films 332, 290 (1998)
4) S. Trusso, C. Vasi, F. Neri
"Growth and structural properties of hydrogenated silicon films deposited by pulsed laser ablation"
Journal of Vacuum Science and Technology A 17, 921 (1999)
5) A.M. Visco, F. Neri, G. Neri, A. Donato, C. Milone, S. Galvagno
"X-ray photoelectron spectroscopy of Au/Fe2O3 catalysts"
Physical Chemistry Chemical Physics (Faraday Transactions) 1, 2869 (1999)
6) S. Trusso, C. Vasi, F. Neri
"CNx thin films grown by pulsed laser ablation: Raman, Infrared and X-Ray photoelectron spectroscopy study"
Thin Solid Films 355-356, 219 (1999)
7) F. Barreca, A.M. Mezzasalma, G. Mondio, F. Neri, S. Trusso, C. Vasi
“Optical constants of CNx thin films from reflection electron energy loss spectroscopy"
Thin Solid Films 377-378, 631 (2000)
8) F. Barreca, A.M. Mezzasalma, G. Mondio, F. Neri, S. Trusso, C. Vasi
“Measurement of the dielectric constant of amorphous CNx films in the 0-45 eV energy range"
Physical Review B 62, 16893 (2000)
9) A.M. Mezzasalma, G. Mondio, F. Neri, S. Trusso
“Quantitative estimation of the threefold and fourfold carbon coordination in amorphous CNx films "
Applied Physics Letters 78, 326 (2001)
10) F. Neri, G. Mondio, A.M. Mezzasalma, E. Fazio, S. Trusso, B. Fazio
“An investigation of the electronic and structural properties of pulsed laser deposited a-C films"
Thin Solid Films 398&399, 233 (2001)
11) S. Trusso, F. Barreca, A.M. Mezzasalma, G. Mondio, F. Neri
“Characterization of Pulsed Laser Deposited a-C Films by means of Reflection Electron Energy Loss Spectroscopy"
Thin Solid Films 398&399, 228 (2001)
12) F. Barreca, E. Fazio, F. Neri, S. Trusso, C. Vasi
“Pulsed laser deposition of silicon and carbon based thin films"
Trends in Vacuum Science & Technology 4, 183 (2001)
13) F. Barreca, F. Neri, S. Trusso
“Excimer laser ablation of silicon carbide ceramic targets"
Diamond and Related Materials 11, 273 (2002)
14) B. Fazio, C. Gerardi, M. Vulpio, Y. Liao, I. Crupi, S. Lombardo, S. Trusso, F. Neri
“Residual crystalline silicon phase in silicon-rich-oxide films after high temperature thermal annealing"
Journal of the Electrochemical Society 149, G376 (2002)
15) S. Trusso, F. Barreca, F. Neri
“Bonding configurations and optical bandgap for nitrogenated amorphous silicon carbide films prepared by pulsed laser
ablation"
Journal of Applied Physics 92, 2485 (2002)
16) A.M. Mezzasalma, G. Mondio, F. Neri, S. Trusso
“sp2 and sp3 bonding configurations in low nitrogen content a-CNx thin films"
Journal of Physics D: Applied Physics 36, 541 (2003)
17) F. Barreca, E. Fazio, F. Neri, S. Trusso
“Electronic properties of PLD prepared nitrogenated a-SiC thin films"
Thin Solid Films 433, 34 (2003)
1)
18) S. Trusso, F. Neri, E. Barletta, F. Barreca
“Optical emission spectroscopy study of the plasma plume produced by laser ablation of SiC in a nitrogen atmosphere"
PPLA 2003, Eds. S. Gammino, A.M. Mezzasalma, F. Neri, L. Torrisi, World Scientific,
ISBN 981-238-943-1 (2004), p. 47-56
19) S. Trusso, E. Barletta, F. Barreca, F. Neri
“Pulsed laser ablation of SiC in a nitrogen atmosphere: Formation of CN"
Applied Physics A: Materials Science and Processing 79, 1997-2005 (2004)
20) S. Trusso, E. Barletta, F. Barreca, E. Fazio, F. Neri
“Time resolved imaging studies of the plasma produced by laser ablation of silicon in O2/Ar atmosphere "
Laser and Particle Beams 23, 149-153 (2005)
21) E. Fazio, E. Barletta, F. Barreca, F. Neri, S. Trusso
“Investigation of a nanocrystalline silicon phase embedded in SiOx thin films grown by pulsed laser deposition"
Journal of Vacuum Science&Technology B 23, 519-524 (2005)
22) F. Barreca, E. Fazio, F. Neri, E. Barletta , S. Trusso, B. Fazio
“Gas pressure effects on the structure of CNx thin films deposited by laser ablation"
Radiation Effects & Defects in Solids 160, 601-608 (2005)
23) F. Barreca, E. Fazio, F. Neri, E. Barletta , S. Trusso, B. Fazio
“Dynamics of a pulsed laser generated tin plasma expanding in an oxygen atmosphere"
Radiation Effects & Defects in Solids 160, 647-653 (2005)
24) E. Fazio, E. Barletta, F. Barreca, G. Mondio, F. Neri, S. Trusso
“Laser ablation deposited CNx thin films” in “Carbon: the future material for advanced technology applications”
G. Messina and S. Santangelo Eds., Springer’ series Topics in Applied Physics vol. 100, pp 287-302
(2006)
25) F. Neri, F. Barreca, E. Fazio, E. Barletta, G. Mondio, S. Trusso, B. Brendebach, H. Modrow
“The influence of the deposition parameters on the electronic and structural properties of pulsed laser ablation prepared
Si1-xCx thin films"
Journal of Vacuum Science&Technology A 25, 117 (2007)
26) G. Currò, M. Camalleri, D. Calì, F. Monforte, F. Neri
“Interface states and traps in thin N2O-grown oxynitride/oxide di-layer for PowerMOSFET devices”
Microelectronics Reliability 47, 819 (2007)
27) G. Currò, M. Camalleri, D. Calì, F. Monforte, F. Neri
“Carrier trapping in thin N2O-grown oxynitride/oxide di-layer for PowerMOSFET devices”
Microelectronics Reliability 47, 798 (2007)
28) F. Monforte, M. Camalleri, D. Calì, G. Currò, E. Fazio, F. Neri
“Nitrogen bonding configurations near the oxynitride/silicon interface after oxynitridation in N2O ambient of a thin
SiO2 gate”
Microelectronics Reliability 47, 822 (2007)
29) E. Fazio, M. Latino, F. Neri, F. Bonsignore
“Raman scattering study of evaporated carbon nanostructured films”
Journal of Raman Spectroscopy 39, 153-156 (2008)
30) B. Fazio, S. Trusso, E. Fazio, F. Neri
“Structural characterization of pulsed laser deposited poly(methylmethacrylate) thin films”
Journal of Raman Spectroscopy 39, 182-185 (2008)
31) E. Fazio, F. Monforte, F. Neri, F. Bonsignore, G. Currò, M. Camalleri, D. Calì
“Nitrogen bonding configurations of SiOxNy thin films in Power MOSFET gate interfaces”
Journal of the Electrochemical Society 155, G1-G7 (2008)
32) P. Cardiano, P. G. Mineo, F. Neri, S. Lo Schiavo, P. Piraino
“A new application of ionic liquids: hydrophobic properties of tetraalkylammonium-based poly(ionicliquid)s”
Journal of Materials Chemistry 18, 1253 (2008)
33) E. Fazio, F. Monforte, F. Neri, F. Bonsignore, G. Currò, M. Camalleri, D. Calì
“Reoxidation process effects on the nitrogen bonding configurations in SiOxNy Power MOSFET dielectric gate”
Journal of the Electrochemical Society 155, G134-G139 (2008)